2023-05-29 08:42:01
等离子去胶法，去胶气体为氧气。其工作原理是将硅片置于真空反映体系中，通入少量氧气，加1500 v高压，由高频信号产生器发生高频信号，使石英管内形成强的电磁场，使氧气电离，形成氧离子、活化的氧原子、氧分子和电子等混杂物的等离子体的辉光柱。
活化氧(活跃的原子态氧)能够敏捷地将聚酰亚胺膜氧化成为可挥发性气体，被机械泵抽走，这样就把硅片上的聚酰亚胺膜去除了。
等离子去胶的长处是去胶操纵简略、去胶效力高、概况清洁光洁、无划痕、本钱低、环保.
电介质等离子体刻蚀装备通常应用电容耦合等离子体平行板反映器。
在平行电极反映器中，反映离子刻蚀腔体采取了阴极面积小，阳极面积大的不对称设计创造，被刻蚀物是被置于面积较小的电极上。
在射频电源所发生的热活动感化下带负电的自由电子因品质小、活动速度快，特别快达到阴极；而正离子则因为品质大，速度慢不能在雷同的时光内达到阴极, 从而使阴极四周形成了带负电的鞘层。
正离子在鞘层的加快下，垂直轰击硅片概况，加速概况的化学反映及反映天生物的离开，导致特别高的刻蚀速率。
离子轰击也使各向异性刻蚀得以实现等离子体去胶的原理和等离子体刻蚀的原理是一致的。
区别的是反映气体的种类和等离子体的激发方法。
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